Four de dépôt LPCVD de silicium polycristallin 4 et 6".
4 and 6 inches LPCVD furnace for polysilicon deposition
Dépôt de Si-poly à partir de silane (SiH4) à 605°C. Epaisseur de 100 nm à 1 µm.
Si-poly deposition from SiH4 at 605°C. Thickness between 100 nm and 1 µm.