Système d'insolation laser 3D avec 2 tailles de faisceau focalisé (5 et 20 µm)
3D laser insolation system with 2 sizes of focalised beam (5 and 20 µm)
https://www.kloe-france.com/fr/photolithographie-laser-uv/systemes-photolithographie/ecriture-directe-laser/impression-3D
Ecriture directe sur échantillons de tailles comprises entre 5 et 50 mm
Fabrication de structures 3D avec des résolutions de 5 µm et 20 µm
Direct writing on samples with sizes between 5 and 50 mm
Fabrication of 3D structures with resolutions of 5 µm and 20 µm