Dépôt en évaporation sous vide par canon à électrons. Le porte substrat tourne à 360° et à une vitesse variable. Le bâti est principalement utilisé les faibles épaisseurs (5-10 nm avec succès). Le porte substrat peut se pivoter sur un axe. Un canon à ions est présent pour la fonctionalisation des substrats.
Le bâti peut acceuillir :
Vacuum evaporation deposit by electron gun. The substrate holder rotates 360 ° and at variable speed. The frame is mainly used for lower thickness (5-10nm success). The substrate holder can be rotate on one axis.
An ion gun is present for the functionalisation of substrates.
The system can accommodate:
- 1 substrates in 4 "format