Système d’écriture laser pour la fabrication de masques optiques et l’écriture directe sur substrats
Direct writing laser for masks making and wafers
Fabrication de masques de tailles 2.5, 4, 5 et 7 pouces avec chargeur automatique
Fabrication de réticules 6 pouces pour stepper CANON LAAS
Ecriture directe sur échantillons de tailles comprises entre 20 et 200 mm
Mesures de motifs de tailles comprises entre 10 µm et 200 mm
Fabricate masks sizes 2.5", 4", 5" and 7" with an automatic loader
Fabricate reticles 6" for stepper CANON LAAS
Direct writing on substrates 20 - 200 mm
Patterns measurements with sizes between 10 µm and 200 mm