SUSS MICROTEC manual Mask Aligner used at LAAS-CNRS since 2002.
This machine allow photoresist exposure on samples, 4" and 6'' wafers at 365nm (20mW) and 405nm (25mW) wavelengh in contact mode (vacuum,hard,soft) or proximity mode.
This aligner use 1000W mercury lamp calibrated 1 time per month.
Specifications:
-TSA/BSA alignement
-Alignement focusing:+/-2um
Tools available :
- maskholders: mask 2.5'', 4'', 5'' and 7''
- chucks : 3mm, 10mm (for soft contact and hard contact), 2'', 4'' and 6'' wafers.
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Aligneur de masque manuel SUSS MICROTEC en service au LAAS-CNRS depuis 2002.
Cet équipement permet d'exposer des wafers 4" et 6" à des longueurs d'onde de 365nm (20mW) and 405nm (25mW) en contact (vacuum,hard,soft) ou en proximité.
Cet aligneur utilise une lampe à vapeur de mercure 1000W calibrée tous les mois.
Specifications:
- TSA/BSA