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SUSS MICROTEC manual Mask Aligner used at LAAS-CNRS since 2002.

This machine allow photoresist exposure on samples, 4" and 6'' wafers at 365nm (20mW) and 405nm (25mW) wavelengh in contact mode (vacuum,hard,soft) or proximity mode.

This aligner use 1000W mercury lamp calibrated 1 time per month.

Specifications:

-TSA/BSA alignement

-Alignement focusing:+/-2um            

-Critical dimension: until 1,5um using vacuum contact with 1,2um thickness photoresist.

Tools available :

- maskholders: mask 2.5'', 4'', 5'' and 7''

- chucks : 3mm, 10mm (for soft contact and hard contact), 2'', 4'' and 6'' wafers.

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Aligneur de masque manuel SUSS MICROTEC en service au LAAS-CNRS depuis 2002.

Cet équipement permet d'exposer des wafers 4" et 6" à des longueurs d'onde de 365nm (20mW) and 405nm (25mW) en contact (vacuum,hard,soft) ou en proximité.

Cet aligneur utilise une lampe à vapeur de mercure 1000W calibrée tous les mois.

Specifications:

- TSA/BSA

- précision d'alignement:+/-2um            

- dimension critique : jusqu'à 1,5um en vacuum contact avec une résine de 1,2um d'épaisseur.

Tool name:
Suss MA6 (P-MANU)
Area/room:
Photolithographies (Bât F)
Category:
Photolithographie / Photolithography
Manufacturer:
Suss Microtec
Model:
6
Max booking time, day:
4 hours
Max booking time, night:
12 hours
No. of future bookings:

Available mask sizes :  5 and 7  inch

Available wafer sizes : small sample (vacuum not guaranted) 4 and 6 inch

Alignement options : TSA and BSA , manual

manual wavelengh filters change possible

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Masque pris en charge : 5 et 7 pouces

Substrats pris en charge : petits échantillons (vacuum non garantie), 4 et 6 pouces

Type d'alignement : Face avant et face arrière, manuel

changement manuel de filtres à longueur d'onde

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