Picture of Rena Cuivre 4 pouces Verticale (E-AUTO)
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Equipement de dépôt industriel de la marque Rena

https://www.rena.com/en/products/semiconductor/electroplating/epm/

Cet équipement permet le dépôt de cuivre sur des wafers 4 et 6 pouces aussi bien en pleine plaque que dans des moules de résine.

Spécifications : 

  • Bain de 25 L
  • Chuck tournant
  • Contact électrique annulaire
  • Flux d’électrolyte perpendiculaire au chuck
  • Epaisseur de dépôt de 0.2 µm à 500 µm
  • Inhomogénéité 8 %
  • Vitesse de dépôt de 0.27 à 0.54  µm/min

La composition du bain est analysée une fois par mois afin de garantir la qualité du matériau déposé


Rena equipment for industrial electroplating.

https://www.rena.com/en/products/semiconductor/electroplating/epm/

This equipment allow copper electroplating on 4" and 6" wafers with local plating mode or full surface mode.

Specifications:

  • 25 liters bath
  • Rotating chuck
  • Electrical ring contact
  • Flow perpendicular to the chuck
  • Deposition thickness: from 0.2um to 500 um
  • Plating inhomogeneity 8%
  • Plating speed: from 0.27 to 0.54 um/min

The bath composition is analyzed one time per month by electroplating staff to ensure the best quality of deposition.


Tool name:
Rena Cuivre 4 pouces Verticale (E-AUTO)
Area/room:
Electrochimie / electroplating (Bât F)
Category:
Electrochimie/electroplating
Manufacturer:
RENA
Model:
EPM 100 F
Max booking time, day:
10 hours
Max booking time, night:
10 hours
No. of future bookings:

Spécifications :

  • Vitesse de dépôt / Deposition rate                      0,27 à 0.54 µm/min
  • Epaisseur / Thickness                                         0,2 à 500 µm
  • Rugosité / Rugosity                                             50 Å
  • Contrainte / Stress                                              50 MPa
  • Résistivité / Resistivity                                        1,65 µohm/cm² après recuit 200°C@ 1h (after                                                                                              200°C@1h annealing)
  • Inhomogénéité / Non homogeneity                     8 %

 

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