Picture of Implanteur ionique IMC 200 (I-IMPL)
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L'implantation ionique consiste à modifier les propriétés d'un matériau par l'insertion d'ions dans le volume. En micro-électronique, elle permet de doper les matériaux semi-conducteur. Elle est également utilisée pour d'autres applications comme le traitement de surfaces.

Ion implantation is use for doping in semi conductors applications and modfying surface state for microsystems applications.
 

Tool name:
Implanteur ionique IMC 200 (I-IMPL)
Area/room:
Implantation (Bât G2)
Category:
Implantation
Manufacturer:
Eaton
Model:
NV 4206
Max booking time, day:
8 hours
Max booking time, night:
8 hours
No. of future bookings:

Nous pouvons réaliser des implantations de Bore, Arsenic, Phosphore, Silicium, Argon, Magnésium et Oxygène dans divers matériaux (Si, GaAs, etc.). Les ions jusqu’à la masse atomique 125 peuvent être traités pour des doses variant de 1011 ions/cm² à quelques 1016 ions/cm². Le masquage est réalisé par résines photosensibles.

We can realize implantations of Boron, Arsenic, Phosphorous, Silicon and Argon, Magnesium and Oxigen into several materials (Si, GaAs, etc...). The implant doses goes from 1011ions/cm2 up to 1016ions/cm2, and we can implant ions with atomic mass under 125. We can use masks photoresists.

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