Picture of Plassys nano (D-EVAP)
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Dépôt en évaporation sous vide par canon à électrons. Le porte substrat tourne à 360° et à une vitesse variable. Le bâti est principalement utilisé les faibles épaisseurs  (5-10 nm avec succès). Le porte substrat peut se pivoter sur un axe. Un canon à ions est présent pour la fonctionalisation des substrats.

Le bâti peut acceuillir :

  • 1 substrat en format 4"

Vacuum evaporation deposit by electron gun. The substrate holder rotates 360 ° and at variable speed. The frame is mainly used for lower thickness (5-10nm success). The substrate holder can be rotate on one axis.
An ion gun is present for the functionalisation of substrates.


The system can accommodate:

  • 1 substrates in 4 "format
Tool name:
Plassys nano (D-EVAP)
Area/room:
PVD (Bât F)
Category:
PVD
Manufacturer:
Plassys
Model:
Nano
Max booking time, day:
10 hours
Max booking time, night:
10 hours
No. of future bookings:

Il y a la possibilté de créer une ou plusieurs couches.

Les métaux utilisés dans ce bâti sont :

  • Ti, Au, Pd, Al, Pt, Cr, Ni, Co
     

There is the possibility of creating one or more layers.

Metals used in this system are:

  • Ti, Au, Pd, Al, Pt, Cr, Ni, Co

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