Picture of Paillasse de Développement & Stripping
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Cette paillasse permet le développment des résines épaisse en utilisant des développeurs à base de solvant ou alcalin. Elle permet également le stripping de résine avec des solvants ou acides chauffés à 90 °C


On this bench, you can develop your thick photoresist with solvent or akaline developer or you can strip your photoresist with strong solvent or hot acid 90 °C


 

Tool name:
Paillasse de Développement & Stripping
Area/room:
Electrochimie / electroplating (Bât F)
Category:
Procédés humides / Wet process benches
Manufacturer:
LAAS
Model:
Developpement
Max booking time, day:
10 hours
Max booking time, night:
10 hours
No. of future bookings:

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