Picture of Etchlab 200 (G-TRIK)
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La machine Etchlab 200 à source plasma capacitive qui n'a pas de sas de chargement des wafers, est équipée de lignes de gaz fluorés pour graver des profondeurs inférieures à 500nm dans le Silicium, le SiO2, le Si3N4. Pour contrôler la gravure en temps réel, la machine dispose d'un détecteur de réflectométrie laser.

english version (2018) : 
The capacitive plasma Etchlab 200 machine, which does not have a wafer loading chamber, is equipped with fluorinated gas lines to etch depths of less than 500nm in Silicon, SiO2, Si3N4.
To control the etching in real time, the machine has a laser reflectometry detector (670nm).

 

informations techniques :                                                           technical information 

GAZ : SF6, CHF3, CF4, C4F8, Ar, O2, N2                                      GAS: SF6, CHF3, CF4, C4F8, Ar, O2, N2

Générateur RF : 13,56MHz 600W                                                 RF Generator: 13,56MHz 600W

Interféromètre laser : 670nm                                                         Laser interferometer: 670nm

Matériaux : Si, SiNx, SiOx                                                             Materials: Si, SiNx, SiOx

Masques: résines UV et électroniques                                          Masks: UV and electronic resists

Profondeurs à graver < 500nm                                                Depths to be etched <500nm

 

Validated processes informations :

  • Si-nano-100W                        :  V = 30-40nm/min
  • Si-SF6-C4F8-O2-45mT-100W :  V = 100-160nm/min
  • SiO2-CHF3-O2-70mT-100W    :  V = 20-30 nm/min
  • Si3N4-CHF3-O2-70mT-100W  :  V = 40nm/min 
  • BARC-O2-10mT-50W              :  V = 60nm/min (t=180s)
  • Cleaning-O2-35mT-50W-5min
  • Cleaning-O2-35mT-400W-600s 
Tool name:
Etchlab 200 (G-TRIK)
Area/room:
Gravure plasma/plasma etching (Bât F)
Category:
Gravure plasma / Plasma etching
Manufacturer:
SENTECH
Model:
Etchlab 200
Max booking time, day:
4 hours
Max booking time, night:
4 hours
No. of future bookings:

Instructors

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