Picture of Mask Aligner Suss MJB3 Si (P-PHOT)
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Laurent Mazenq
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Description

SUSS MICROTECH manual Mask Aligner used at LAAS-CNRS since 1985.

This machine allow photoresist exposure on little samples to 3" wafers at 365nm (10mW) and 405nm (20mW) wavelengh in contact mode (vacuum,hard,soft)

This aligner use 350W mercury lamp calibrated 2 times per month.

 

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Aligneur de masque manuel SUSS MICROTEC en service au LAAS-CNRS depuis 1985.

Cet équipement permet d'exposer des wafers jusqu'à 3 pouces à des longueurs d'onde de 365nm (15mW) and 405nm (30mW) en contact (vacuum,hard,soft).

Cet aligneur utilise une lampe à vapeur de mercure 350W calibrée tous les mois.

 

Details
Tool name:
Mask Aligner Suss MJB3 Si (P-PHOT)
Area/room:
Nanolithographies (bat G1)
Category:
Photolithographie / Photolithography
Manufacturer:
Suss Microtec
Model:
MJB3
Validated processes informations

Available mask sizes :  2.5, 3 and 4  inch

Available wafer sizes : up to 3 inch

Alignement options : TSA, manual

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Masque pris en charge : 2.5,3 et 4 pouces uniquement

Substrats pris en charge : jusqu'à 3 pouces

Type d'alignement : Face avant, manuel

Instructors & Licensed Users

Instructors

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