Picture of Suss MJB3 Si (P-MANU)
Current status:
AVAILABLE
Book | Log
Show/Collapse all

1st Responsible:
2nd Responsible:
You must be logged in to view files.

SUSS MICROTECH manual Mask Aligner used at LAAS-CNRS since 1985.

This machine allow photoresist exposure on little samples to 3" wafers at 365nm (10mW) and 405nm (20mW) wavelengh in contact mode (vacuum,hard,soft)

This aligner use 350W mercury lamp calibrated 2 times per month.

Specifications:

- TSA Alignement

- Alignement focusing:+/-2um            

- Critical dimension: until 1,5um using vacuum contact with 1,2um thickness photoresist.

-------------------------------------------------------------------------------------------------------------------------------------------

Aligneur de masque manuel SUSS MICROTEC en service au LAAS-CNRS depuis 1985.

Cet équipement permet d'exposer des wafers jusqu'à 3 pouces à des longueurs d'onde de 365nm (15mW) and 405nm (30mW) en contact (vacuum,hard,soft).

Cet aligneur utilise une lampe à vapeur de mercure 350W calibrée tous les mois.

Specifications:

- TSA

- précision d'alignement:+/-2um            

- dimension critique : jusqu'à 1,5um en vacuum contact avec une résine de 1,2um d'épaisseur.

Tool name:
Suss MJB3 Si (P-MANU)
Area/room:
Nanolithographies (bat G1)
Category:
Photolithographie / Photolithography
Manufacturer:
Suss Microtec
Model:
MJB3
Max booking time, day:
4 hours
Max booking time, night:
12 hours
No. of future bookings:

Available mask sizes :  2.5, 3 and 4  inch

Available wafer sizes : up to 3 inch

Alignement options : TSA, manual

---------------------------------------------------------------------------------------------------------

Masque pris en charge : 2.5,3 et 4 pouces uniquement

Substrats pris en charge : jusqu'à 3 pouces

Type d'alignement : Face avant, manuel

Instructors

Licensed Users

You must be logged in to view tool modes.